SLA (Stereolithographie) ist ein additives Fertigungsverfahren, bei dem ein UV-Laser auf einen Behälter mit Photopolymerharz fokussiert wird. Mit Hilfe von Software für computergestützte Fertigung oder computergestütztes Design (CAM/CAD) wird der UV-Laser verwendet, um ein vorprogrammiertes Design oder eine vorprogrammierte Form auf die Oberfläche des Photopolymerbehälters zu zeichnen. Photopolymere reagieren empfindlich auf ultraviolettes Licht, sodass das Harz photochemisch verfestigt wird und eine einzelne Schicht des gewünschten 3D-Objekts bildet. Dieser Vorgang wird für jede Ebene des Designs wiederholt, bis das 3D-Objekt fertig ist.
CARMANHAAS könnte seinen Kunden das optische System anbieten, das hauptsächlich einen schnellen Galvanometerscanner und ein F-THETA-Scanobjektiv, einen Strahlaufweiter, einen Spiegel usw. umfasst.
355-nm-Galvo-Scannerkopf
| Modell | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Wassergekühlter/versiegelter Scankopf | Ja | Ja | Ja |
| Blende (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Effektiver Scanwinkel | ±10° | ±10° | ±10° |
| Tracking-Fehler | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Sprungreaktionszeit (1 % des Skalenendwerts) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Typische Geschwindigkeit | |||
| Positionierung / Sprung | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Linienscannen/Rasterscannen | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Typisches Vektorscannen | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Gute Schreibqualität | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Hohe Schreibqualität | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Präzision | |||
| Linearität | 99,9 % | 99,9 % | 99,9 % |
| Auflösung | ≤ 1 Urad | ≤ 1 Urad | ≤ 1 Urad |
| Wiederholbarkeit | ≤ 2 Urad | ≤ 2 Urad | ≤ 2 Urad |
| Temperaturdrift | |||
| Offset-Drift | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Über 8 Stunden Langzeit-Offset-Drift (nach 15 Minuten Vorlaufzeit) | ≤ 30 Urad | ≤ 30 Urad | ≤ 30 Urad |
| Betriebstemperaturbereich | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| Signalschnittstelle | Analog: ±10V Digital: XY2-100-Protokoll | Analog: ±10V Digital: XY2-100-Protokoll | Analog: ±10V Digital: XY2-100-Protokoll |
| Eingangsleistungsanforderung (DC) | ±15 V bei 4 A max. RMS | ±15 V bei 4 A max. RMS | ±15 V bei 4 A max. RMS |
355-nm-F-Theta-Objektive
| Teilebeschreibung | Brennweite (mm) | Scanfeld (mm) | Maximaler Eintritt Schüler (mm) | Arbeitsabstand (mm) | Montage Faden |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824,4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
355-nm-Strahlaufweiter
| Teilebeschreibung | Erweiterung Verhältnis | Geben Sie CA ein (mm) | Ausgang CA (mm) | Gehäuse Durchmesser (mm) | Gehäuse Länge (mm) | Montage Faden |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0,5 |
355-nm-Spiegel
| Teilebeschreibung | Durchmesser (mm) | Dicke (mm) | Beschichtung |
| 355 Spiegel | 30 | 3 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Spiegel | 20 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Spiegel | 30 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
