SLA (Stereolithographie) ist ein additives Fertigungsverfahren, bei dem ein UV-Laser auf einen Behälter mit Photopolymerharz fokussiert wird. Mithilfe von CAM/CAD-Software (Computer Aided Manufacturing) wird mit dem UV-Laser ein vorprogrammiertes Design oder eine Form auf die Oberfläche des Photopolymerbehälters gezeichnet. Photopolymere reagieren empfindlich auf ultraviolettes Licht, sodass das Harz photochemisch verfestigt wird und eine einzelne Schicht des gewünschten 3D-Objekts bildet. Dieser Vorgang wird für jede Schicht des Designs wiederholt, bis das 3D-Objekt fertig ist.
CARMANHAAS könnte dem Kunden das optische System anbieten, das hauptsächlich einen schnellen Galvanometer-Scanner und eine F-THETA-Scanlinse, einen Strahlaufweiter, einen Spiegel usw. umfasst.
355 nm Galvo-Scannerkopf
Modell | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
Wassergekühlter/versiegelter Scankopf | Ja | Ja | Ja |
Blende (mm) | 14 | 20 | 30 |
Effektiver Scanwinkel | ±10° | ±10° | ±10° |
Tracking-Fehler | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
Sprungantwortzeit (1 % des Skalenendwerts) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
Typische Geschwindigkeit | |||
Positionierung / Sprung | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
Zeilenscan/Rasterscan | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
Typisches Vektorscannen | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
Gute Schreibqualität | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
Hohe Schreibqualität | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
Präzision | |||
Linearität | 99,9 % | 99,9 % | 99,9 % |
Auflösung | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
Wiederholbarkeit | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
Temperaturdrift | |||
Offset-Drift | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
Qüber 8 Stunden Langzeit-Offset-Drift (nach 15-minütiger Aufwärmphase) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
Betriebstemperaturbereich | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
Signalschnittstelle | Analog: ±10 V Digital: XY2-100-Protokoll | Analog: ±10 V Digital: XY2-100-Protokoll | Analog: ±10 V Digital: XY2-100-Protokoll |
Eingangsleistungsbedarf (DC) | ±15 V bei 4 A Max RMS | ±15 V bei 4 A Max RMS | ±15 V bei 4 A Max RMS |
355 nmF-Theta Linsees
Teilebeschreibung | Brennweite (mm) | Scanfeld (mm) | Max. Eintritt Pupille (mm) | Arbeitsabstand (mm) | Montage Faden |
SL-355-360-580 | 580 | 360 x 360 | 16 | 660 | M85x1 |
SL-355-520-750 | 750 | 520 x 520 | 10 | 824,4 | M85x1 |
SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610 x 610 | 15 | 910 | M85x1 |
SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800 x 800 | 18 | 1193 | M85x1 |
355 nm Strahlaufweiter
Teilebeschreibung | Erweiterung Verhältnis | Eingang CA (mm) | Ausgang CA (mm) | Gehäuse Durchmesser (mm) | Gehäuse Länge (mm) | Montage Faden |
BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0,5 |
BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0,5 |
355-nm-Spiegel
Teilebeschreibung | Durchmesser (mm) | Dicke (mm) | Beschichtung |
355 Spiegel | 30 | 3 | HR@355nm,45° AOI |
355 Spiegel | 20 | 5 | HR@355nm,45° AOI |
355 Spiegel | 30 | 5 | HR@355nm,45° AOI |