Optik des dynamischen optischen Scansystems: 1 Stück kleine Fokuslinse, 1-2 Stück Fokuslinse, Galvospiegel. Die gesamte optische Linse bildet eine Funktion der Strahlaufweitung, Fokussierung sowie Strahlablenkung und -abtastung.
Der Erweiterungsteil ist eine Negativlinse, also eine Linse mit kleinem Fokus, die eine Strahlaufweitung und einen beweglichen Zoom realisiert. Die Fokussierungslinse besteht aus einer Gruppe positiver Linsen. Der Galvospiegel ist ein Spiegel im Galvanometersystem.
(1) Optimierung des Linsendesigns: Optimales Verhältnis von Durchmesser zu Dicke
(2) Hohe Schadensschwelle der Linse: >30J/cm2 10ns
(3) Beschichtung mit extrem geringer Absorption, Absorptionsrate: <20 ppm
(4) Verhältnis von Dicke zu Durchmesser des Galvanometers: 1:35
(5) Genauigkeit der Linsenoberfläche: <= λ/5
Postobjektive Linse
| Max. Aufnahmeschüler (mm) | Optik 1 Durchmesser (mm) | Optik 2 Durchmesser (mm) | Optik 3 Durchmesser (mm) | Scanfeld (mm) | Klare Blende des Scanners (mm) | Wellenlänge |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10,6 um |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030–1090 nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532 nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355 nm |
Reflektorspiegel
| Teilebeschreibung | Durchmesser (mm) | Dicke (mm) | Material | Beschichtung |
| Siliziumreflektor | 25.4 | 3 | Silizium | HR@10.6um,AOI: 45° |
| Siliziumreflektor | 30 | 4 | Silizium | HR@10.6um,AOI: 45° |
| Faserreflektor | 25.4 | 6.35 | Quarzglas | HR@1030–1090 nm, AOI: 45° |
| Faserreflektor | 30 | 5 | Quarzglas | HR@1030–1090 nm, AOI: 45° |
| Faserreflektor | 50 | 10 | Quarzglas | HR@1030–1090 nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 25.4 | 6 | Quarzglas | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 25.4 | 6.35 | Quarzglas | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 30 | 5 | Quarzglas | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektor | 50 | 10 | Quarzglas | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 25.4 | 6 | Quarzglas | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 25.4 | 6.35 | Quarzglas | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 25.4 | 10 | Quarzglas | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
| 355 Reflektor | 30 | 5 | Quarzglas | HR@355nm&433nm, AOI: 45° |
Galvo-Spiegel
| Teilebeschreibung | Max. Aufnahmeschüler (mm) | Material | Beschichtung | Wellenlänge |
| 55 mm L x 35 mm B x 3,5 mm T-X 62 mm L x 43 mm B x 3,5 mm T-Y | 30 | Silizium | MMR@10.6um | 10,6 um |
| 55 mm L x 35 mm B x 3,5 mm T-X 62 mm L x 43 mm B x 3,5 mm T-Y | 30 | Quarzglas | HR@1030–1090 nm | 1030–1090 nm |
| 55 mm L x 35 mm B x 3,5 mm T-X 62 mm L x 43 mm B x 3,5 mm T-Y | 30 | Quarzglas | HR@532nm | 532 nm |
| 55 mm L x 35 mm B x 3,5 mm T-X 62 mm L x 43 mm B x 3,5 mm T-Y | 30 | Quarzglas | HR@355nm | 355 nm |
Schutzlinse
| Durchmesser (mm) | Dicke (mm) | Material | Beschichtung |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
